美国Grolltex公司已完成表征，并正在发布一种大面积单层石墨烯产品，这种结构显著地改善了“电子迁移率”，从而使石墨烯的性能得到了提升。

位于美国圣地亚哥的石墨烯和二维材料生产商Grolltex公司已完成表征，并正在发布一种大面积单层石墨烯产品，这种结构显著地改善了“电子迁移率”，从而使石墨烯的性能得到了提升。这种“异质结构”是在石墨烯下面包含一层或多层六方氮化硼（或“hBN”），从而增强了石墨烯的性能。

 

Grolltex公司已经开始向这些“增强性能石墨烯”产品的客户进行商业预售，该产品能显著改善器件在传感、晶体管、连通性和纳米器件的其他关键方面的性能。这种材料性能的改善通常是新应用的踏脚石，使市场能够朝着更快、更小、更便宜和更敏感的硅基器件方向发展。

Groltex公司首席执行官兼联合创始人杰夫·德拉(Jeff Draa)说：“来自我们的大型欧洲设备合作伙伴的数据显示，运营商移动性能的提升至少30％。我们的内部工作表明，通过一些配置调整，我们甚至可以在指数体系中实现电子移动性改进。我们相信，这对我们许多用硅制造产品的客户来说将是极其重要的。”

提高石墨烯电子迁移率性能的第一个原因是，在晶圆上的hBN表面上分层时，硅片和石墨烯之间的hBN底层使硅片表面平坦，并允许石墨烯位于更有利于石墨烯电子流动的表面上。如果石墨烯直接位于其上，则另一个原因与来自下面的Si / SiO2晶片的氧化物的电子干扰有关。利用石墨烯和晶片之间的hBN层，来自晶片的氧化物对石墨烯电子性能的负面影响大大降低，允许更自由的石墨烯电子流动。另外的优点是较低的加工温度和石墨烯层与下面的基底的更强粘附性，并且存在hBN。

Grolltex首席执行官兼联合创始人Jeff Draa介绍：“当石墨烯位于hBN上时，它的性能更接近石墨烯用户所期望的理论“电子高速公路”。我们已经对这种异质结构进行了描述，并将这种异质结构出售给我们的预先合格的客户，其直径可达200毫米，并且可以在任何组合中对hBN和石墨烯进行分层。设备设计人员，特别是先进的传感器制造商，会真正关注电子移动性。影响这一点的变量很多，能够消除这些因素并在移动性方面表现出显著改善的人，可以帮助增加设备性能的真实、独特和实质性价值。”

Grolltex是“石墨烯 - 轧制技术”的缩写，采用最初在加利福尼亚大学圣地亚哥分校开发的专利研究和技术，生产高质量的单层石墨烯，六方氮化硼和其他二维材料和产品。该公司是专门从事可持续石墨烯生产方法的专业公司，并致力于推动石墨烯领域的发展，通过优化单原子材料来改善前沿材料科学和产品设计的未来。

来源：今日头条

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